高純鉻靶材鉻靶材價格

產品介紹

鉻靶材

關鍵詞：鉻靶材，高純鉻靶材，高純鉻 靶材，鉻靶材生產廠家，靶材鉻價格

?

?

<鉻靶Chromium target性能Product performance純度/%
Purity????? 99.599.95密度/g/cm3
Density?????? ≥7.12≥7.12晶粒度/μm
Grain size?????? ≤100≤100金屬雜質總和/ppm
Total content of metallic impurities??????? ≤5000≤500熱導率/W/m.K
Thermal conductivity?????? 60100熱膨脹系數/1/K
Coefficient of thermal expansion???????? 8×10-68×10-6規格尺寸/mm
Size平面靶
Planar target≤1600×500≤1600×500旋轉靶
Rotating target熱等靜壓整體成形
Integral formingby HIP
長度Length≤4000
厚度Thickness≤15熱等靜壓整體成形
Integral formingby HIP
長度Length≤4000
厚度Thickness≤15

鉻旋轉靶材、鉻管靶

鉻管靶可加工成熱等靜壓整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶，兩種鉻管靶相比，熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質量好等優點，缺點成本**。

?

熱等靜壓鉻管靶

純度：99.8%

工藝：熱等靜壓一體成型高純鉻靶

常用規格：高純鉻管靶，高純鉻環靶，長度500~2000mm,直徑:70-155mm,管厚：3-10mm，按您的要求定做。

相對于傳統等離子噴涂，熱等靜壓管靶單邊更加厚，使用壽命更長是，傳統噴涂靶3倍，含氧量更低。

?

噴涂鉻管靶

成型工藝：熱等靜壓、噴涂

用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜

常規尺寸：ID125xOD145~155xL

?

<

性能

噴涂鉻管靶材

熱等靜壓整體成形鉻管靶材

氧含量/ppm

≤5000

80-1500

鍍膜均勻性

Deposition uniformity

1.????整管軸向致密度相差較大

2.????整爐上中下L、A、B值相差較大

3.????無法保證產品膜層的一致性

1.????整管均勻性高

2.????密度接近于純金屬熱擠壓密度，管材通體密度一致

3.????無松散區、無暗區

4.???? PVD膜層的厚度及顏色的一致性好

5.????整爐上中下L、A、B值統一性好

鍍膜電流密度

無法實現大電流長時間工作

大功率長時間穩定工作

歡迎進入啟睿新材料瀏覽更多濺射靶材產品

企業產品

• 蒸發鍍膜用高純鈦顆粒 
• 高純金顆粒－真空蒸發鍍膜用 
• 高純鋯靶材,磁控濺射鋯靶材，鋯靶材的公司和廠家 

聯系我們

• 長沙市啟睿新材料有限公司 ( ixcl.magnetbuy.com)
• 聯系人：汪
• 地址：湖南省長沙市岳麓區銀盆嶺街道銀杉路31號綠地時代廣場1棟408房
• 手機：13365870915
• 網址：ixcl.magnetbuy.com